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        PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室的桌面型科研設(shè)備，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進(jìn)行干法刻蝕。該系統(tǒng)包括反應(yīng)腔室，真空系統(tǒng)，RF射頻系統(tǒng)，反應(yīng)氣路系統(tǒng)，電器控制，軟件程序等幾個(gè)子系統(tǒng)。
        

        

        

        訪問次數(shù)：246
        

        產(chǎn)品價(jià)格：499999
        

        廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
        

        更新日期：2025-03-05
        

        

        

        


        

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